Zakázka byla zadána.
NadlimitníDodávkySpeciální optické nástroje

System for electron beam lithography - REISSUE

Předmět zakázky

Předmětem veřejné zakázky je dodávka systému pro vytváření libovolných tvarů s rozlišením v řádu alespoň 20 nm pomocí fokusovaného svazku elektronů na povrchu pokrytém elektronově citlivým filmem. Systém musí dále umožňovat selektivní odstranění exponovaných nebo neexponovaných oblastí povrchu.

Termín podání
4. listopadu 2024 v 11:00
Hodnota
1,0 mil. Kč
Druh řízení
Otevřené řízení
Profil zadavatele
Profil zadavatele
Posouzení zakázky
Spustit posouzení
Detail →
Konkurence u zadavatele
Načítáme konkurenci u zadavatele…
Načítám posouzení V2…