Fotoemisní systém pro studium povrchové elektronové struktury kvantových materiálů na atomové úrovni

Předmětem zakázky je dodání fotoelektronového systému založeného na principu mikroskopie hybnosti za účelem studia povrchu kvantových materiálů v ultravysokém vakuu (UHV) se základním tlakem ≤ 3.0×10-10 mbar. Přístroj je určený na experimentální výzkum vlivu fotoemisních geometrií a k dichroickým studiím zkoumajícím vliv polarizace světla během experimentu. Systém musí mít prostorové rozlišení ≤ 38 nm spolu s energetickým rozlišením ≤ 30 meV. Před instalací musí být provedena vibrační studie v laboratořích, aby se zajistilo řádné odizolování vibrací a systém byl náležitě vybaven tlumiči. Dodávka přístroje je dopravy, instalace a zaškolení obsluhy.